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光催化反應器CY-GHX-A小試管汞燈反應釜主要特征:
1.采用智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化 2. 具有分步定時功能,操作簡便
3.進口光源控制器,內置光源轉換器,功率連續可調,穩定性高 4. 高溫度保護系統,自動斷電功能
5.反應暗箱內壁使用防輻射材料,且帶有觀察窗
6.采用內照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質,經久耐用
7.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光
8.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環維持反應溫度
9.機箱外部結構設有循環水進出口,內部設有2個插座,供燈源和攪拌反應器用
光化學反應釜,又稱為光化學反應儀,多功能光化學反應器,光催化反應裝置,多功能光化學反應儀等多系列光催化裝置是參考國外進口光化學反應儀的基礎上和國內有名實驗室實踐合作共同開發的新一代光化學反應裝置,主要用于研究氣相、液相固相、流動體系在模擬紫外光、模擬可見光、特種模擬光照射下,是否負載TiO2光催化劑等條件下的光學反應。
光化學反應與一般熱化學反應的差別
1、加熱使分子活化時,體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布;而分子受到光激活時,原則上可以做到選擇性激發(能躍值的選擇、電子激發態模式的選擇等),體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學反應的途徑與產物往往和基態熱化學反應不同。
2、只要光的波長適當,能為物質所吸收,即使在很低的溫度下,光化學反應仍然可以進
光催化反應器CY-GHX-A小試管汞燈反應釜技術參數:
(一)主體部分 1.光源功率可連續調節大小。 2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。 4.氙燈功率調節范圍:0~1000W可連續調節。
5.金鹵燈功率調節范圍:0~500W可連續調節。
(二)小容量反應部分 1.石英試管規格:30ml、50ml(或定做)。 2.可同時處理8個樣品(或定做)。
3.八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。
化學是創造新物質的科學,合成化學是人類認識物質和創造物質的重要途徑與手段。隨著各種高新技術和產業的發展,人類對物質的功能不斷提出新的要求,合成化學的突破和新物種的出現將極大地推動科學發展和社會進步。
傳統的化學是分子處于基態發生的化學,而光化學是研究分子和原子電子激發態的化學,它所涉及光的波長范圍通常為100—1000納米,即由深紫外至近紅外波段。激發態分子的電子轉移、能量傳遞和化學轉換廣泛存在于多種光化學、光物理和光生物過程中,電子激發態分子的性質和化學反應機理、動力學過程往往與基態分子不同,研究激發態分子的性質和變化規律具有重要的科學意義和應用價值。隨著光化學理論的建立和光化學研究技術的發展,近紫外和可見光區的光化學和光物理研究得到快速發展,光化學在合成化學、材料科學、信息科學、能源科學、生命科學以及環境科學等領域發揮了很大作用。但由于缺乏光源,有關深紫外區域的光化學研究工作開展得非常少。
只有吸收光的分子才能發生光化學反應,這是光化學定律。迄今為止,化學家們已合成3000多萬個化合物,其中在紫外和可見光區有吸收的化合物不到總量的10%,這些化合物的光化學已被研究的比較清楚,相關研究為現代分子光化學理論的建立提供了實驗基礎,并使光化學在各研究領域得以發展和應用。更多的化合物吸收在深紫外區,由于缺乏相應的光源,這些占合成化合物總量約90%化合物的光化學研究尚不多見。深紫外激光光源的發展,為只在深紫外區域有吸收的大量化合物的光化學研究提供了可能。利用深紫外激光激發這些化合物,將有可能對其激發態的光物理和光化學過程進行觀察,發現新的反應,創造新的物質,發展新的理論,
基于此,在2007年設立的“深紫外固態激光源前沿裝備研制”項目中,由中科院理化技術所牽頭,利用具有*自主知識產權的深紫外激光光源技術,開展了“深紫外激光光化學反應儀與在線檢測系統研制”的工作。
2 裝置綜述
該項目的目標是研制一套深紫外激光光化學反應儀與在線檢測系統,使用自主研制的深紫外激光光源,將深紫外激光光源與快速時間分辨技術相結合,實現對深紫外激光光化學反應的研究,并對反應中間體及反應動力學過程進行快速時間分辨檢測,時間分辨可達ps量級。
該裝置有4個部分:光化學反應腔及特殊樣品池;穩態光化學反應檢測子系統;時間分辨發光光譜檢測子系統;瞬態吸收光譜檢測子系統。
(1)光化學反應腔及特殊樣品池。痕量的氧氣或水蒸氣對深紫外光的吸收和衰減影響明顯,深紫外光的傳輸和光化學反應必須在高真空或高純氮氣保護氣氛下進行,對真空腔和樣品池的密閉性和壓力承受方面的設計要求比較高。根據系統要求,委托在真空領域具有豐富經驗的北京中科科儀技術發展有限責任公司進行了真空腔的設計和加工。另外,根據系統真空度的要求,并結合腔體的大小,采用了德國普發MVP070隔膜泵作為前級,與TMU261和Hicube80分子泵一起構成二級真空系統,分別對深紫外腔體和光化學反應腔體進行抽真空處理,30分鐘內,可使體系的真空度達到10-5mbar以下。
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